Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

￥12,690
+ 配送料￥2,799
  • product image

Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

  • ブランド: Unbranded
販売元:

Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

  • ブランド: Unbranded

￥12,690

在庫はあと1個のみ
+ 配送料￥2,799

14日間返品ポリシー

販売元:

￥12,690

在庫はあと1個のみ
+ 配送料￥2,799

14日間返品ポリシー

支払い方法:

説明

Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling optimization and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.
  • ブランド: Unbranded
  • カテゴリー: 科学、医学、自然
  • フォーマット: Paperback
  • 刊行日: 2025-05-07
  • ページ数: 354
  • 著者: Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
  • 言語: English
  • 出版社 / レコード会社: Taylor & Francis Ltd
  • Fruugo ID: 484517065-1005482003
  • ISBN: 9781032386737

配達

6日間以内に発送

  • STANDARD: ￥2,799 - 間の配達 木 23 7月 2026–水 12 8月 2026

イギリスより発送。

返品

ご注文の商品は、お客様の仕様に従い、万全の状態で配送されるように最善を尽くしています。しかし、もし注文に抜けがあったり、注文したものと違う商品が届いたり、注文に満足できないその他の理由がある場合は、注文全体やその中のいずれかの商品を返品し、その全額の返金を受けることができます。

全額返金ポリシーを見る